Система спектрального контроля IRIS

Встраиваемые системы спектрального (ширикополосного) оптического контроля серии IRIS являются в настоящее время самым современным решением для контроля процессов вакуумного нанесения оптических покрытий.

Системы IRIS предназначены для контроля покрытий по спектрам пропускания или отражения в реальном времени, а также позволяют осуществлять послойную корректировку покрытия. Основу системы составляет высокоточный спектрометр EOS собственной разработки, электронная система управления, а также программное обеспечение визуализации измерительного процесса на экране оператора.

Дополнительно, в программу работы системы можно загружать расчетные оптические кривые каждого слоя из программы расчета основных и промежуточных спектров МультиСпектр. Это позволяет точно сопоставлять расчетные и фактические значения на выбранных длинах волн, контролировать форму спектральной кривой и остананавливать процесс напыления по достижении требуемого значения.

Конструкция встраиваемых систем спектрального оптического контроля серии IRIS не требует доработок в вакуумной установке. В комплект поставки входят все необходимые переходные фланцы, оптоволоконные кабели и крепежные элементы, которые разрабатываются для большинства эксплуатируемых установок (ВУ, УВН, Leybold, Balzers и т.д.), а также для новых установок.

Приборы серий IRIS являются надежным и удобным инструментом при решении задач по получению высококачественных оптических покрытий. Применение систем обеспечивает изготовление покрытий самых сложных спектральных характеристик, существенное снижение брака в покрытиях и более высокий коэффициент выхода годных процессов.

Применение встраиваемых систем спектрального контроля серии IRIS обеспечивает существенное улучшение качественных показателей получения сложных многослойных оптических покрытий, включая неравнотолщинные покрытия и покрытия с несколькими рабочими длинами волн (например, покрытия для лазерных оптических элементов), существенно повышает выход годных деталей и сокращает время на отработку сложных процессов и новых покрытий.